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台積電鬆口了！攜手 ASML 推 12 吋 High EUV 光罩 2030 導入先進製程
2026年09月08日 14:51--:--
緯來新聞網原文發生了什麼
台積電與ASML宣布合作推動12吋High NA EUV光罩，預計2030年導入先進製程
誰參與其中
台積電魏哲家、ASML總裁Fouquet，多家半導體製造與光罩廠商
為什麼重要
有助提升晶圓廠生產力，降低晶片製造成本，技術創新意義重大
有什麼影響
可消除目前6吋光罩拼接限制，助產能提升，支援AI等先進應用需求
未來可能發展
2031年建立試產線，2033年全面就緒，預期推動晶片小型化與性能提升。
品妍
接下來要談的是這則新聞的重點分析，讓我們一起深入了解背後的關鍵細節...
柏翰
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品妍
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柏翰
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品妍